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使用支架结构剥离掩模在三维结构上对共形薄膜进行光刻图案化

Liu X, Che Z, Maj Z, Lai LL, Gylfason KB, Dubois V, N Raja S, Stemme G, Niklaus F

发表年份
2026
期刊
Nature communications

摘要

该论文提出了一种利用支架结构剥离掩模在三维结构上对共形薄膜进行光刻图案化的方法。该方法能够实现复杂三维表面上的高精度图案化,具有潜在应用价值。

关键词

lithographythin films3D structureslift-off masksscaffold-architected

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